二手 ULVAC Entron T5 #9020575 待售

ULVAC Entron T5是日本制造公司ULVAC开发的溅射设备。它是一个紧凑的自旋系统，旨在用薄膜材料覆盖大型基板。Entron T5使用溅射过程进行操作，在该过程中，目标原子被射到基板上，从而形成薄膜层。ULVAC Entron T5配备了质量流控制器和抛物线形的单面磁控管目标。此配置提供了高效、高通量的沉积过程。该机组还包括一个最大输出5000 W的电源单元，以确保最大薄膜质量和沉积速率。Entron T5还能够精细控制沉积室内的温度。这是通过强制空气冷却装置和嵌入在腔室壁周围的电加热器来实现的。这允许精确的温度控制,以实现可重复性和质量保证。ULVAC Entron T5还设有溅射过程监测机，可随时监控真空压力、功率水平和薄膜厚度。这样便于监测沉积过程。它还配备了气体注入装置，允许受控地将反应性气体引入沉积室。此外，Entron T5提供了广泛的溅射目标，使其成为各类材料沉积要求的理想选择。适用于金属、合金、介电材料的沉积。再者，这种溅射工具的大腔室可以容纳高达800mm × 1000mm的基板。为确保最高质量,ULVAC已将最高的精度标准纳入制造过程。磁场用稳定的自动调谐电路稳定产生，超低真空过程用ULVAC先进软件监测稳定。总体而言,ULVAC Entron T5是一种紧凑、高性能、经济实惠的资产,可提供高效、精确的薄膜涂层。其特点使其成为各种薄膜沉积应用的理想选择。