二手 ULVAC KS-300-1.5 #9110225 待售

ULVAC KS-300-1.5溅射设备是一种高性能等离子体增强沉积系统，利用高能电子产生均匀、高度均匀、光滑的薄膜涂层。该装置具有单端溅射源和用于产生等离子体的真空室。此外，该机还配备了多种用于半导体、金属等材料加工的配件。该工具的核心由一个200毫米的真空室和一个集成的控制器和数字显示器组成。它能够达到高达10-3 Torr的压力，底压为10-6 Torr。溅射源为粉末涂层铝，安装在真空室顶部，与电源相连。溅射源利用两枪阴极构型，产生均匀且高度均匀的涂层。为了方便起见，该资产包括一个可编程的目标对齐模型，以确保目标的准确放置。此外,设备还包括目标支架,以确保目标与基板之间的最大接触。该系统配有各种配件，用于各种材料的加工。其中包括用于制造高密度等离子体的磁控阴极、用于控制基板温度的基板加热器、用于控制基板以及用于控制离子轰击能量的快门执行器，以及用于均匀涂层沉积的扫描速度调节器。此外,该设备还包括温度控制器、热传感器、屏蔽外壳和摄像头设备,用于精确和精确的过程控制。ULVAC KS-300-1.5是一种多功能、高性能的机器，能够在各种不同的基板上进行高度均匀的涂层。它能够实现小粒度、高质量的薄膜，具有优良的工艺重复性和均匀性。它是半导体工业中沉积应用的绝佳选择。