二手 ULVAC ULDIS-900-CHL #9113738 待售

ULVAC ULDIS-900-CHL是一种高性能磁控管溅射设备，专为薄膜沉积、OLED显示原型、光学涂层等多种应用而设计。这种溅射系统采用了独特的紧凑配置，结合了强大的磁场和超高真空技术，实现了单个源溅射单元中可用的最高沉积速率。ULDIS-900-CHL使用Quadpol型多磁控器星团溅射源,可以精确控制目标材料的运动分布。该机允许多层或多组分薄膜沉积，最多4个磁控管独立操作和组合。每个磁控管都配有强大的磁铁，以产生高密度的等离子体。ULVAC ULDIS-900-CHL还包含一个强大的气体放电源，以实现均匀的高速率等离子体，从而产生精确的光学特性的沉积。ULDIS-900-CHL机械臂的设计使样品支架能够精确地自动移动。该工具可以在溅射过程中精确移动和定位样品支架，允许多步涂层工艺或复杂涂层只需一步。此外，该资产还支持各种基板的可自定义基板持有者，包括扁平基板、圆柱形基板和弯曲基板。该模型的其他特点，如计算机控制操作、用户友好的图形用户界面、实时配方控制以及扩展选项，使其成为多层或多组分薄膜沉积的强大且用户友好的工具。因此，这种溅射设备非常适合工业生产薄膜和光学涂层。