二手 VARIAN 3125 #38005 待售

VARIAN 3125离子源溅射设备是一种实验室规模的溅射系统，用于使用惰性或反应性气体的基板表面涂层。它能够对底物进行低原子量或高原子量的蚀刻、沉积和合金化材料。3125是实验室溅射涂层应用的高质量、高成本效益的解决方桉，可用于各种基于溅射的实验中的小规模生产。VARIAN 3125具有离子能量控制器,可进行精确精确的能量调节。它还具有较大的阴极面积和强大的旋转磁控管溅射枪。该枪允许基板在任何方向上移动，从而提供目标的完整且均匀的覆盖。此外，3125的真空压力为10-2 mBar，抽水时间~ 10分钟。该单元由几个部件组成，包括一个高真空泵浦模块、一个冷冻泵和一个带手动超载控制机的真空计量站。此外，该装置有一个风冷电源，具有可调的负偏置和正偏置。此外,VARIAN 3125还配备了手动控制工具,操作员可以自定义溅射过程参数。通用3125适用于直流和射频溅射过程。它还能够从广泛的金属、氮化物、氧化物和合金中溅射出来。该资产允许对可旋转的目标基板进行溅射，包括陶瓷、玻璃和硬蜡基板，以及柔性和非平性基板。用户可以使用各种参数自定义其溅射过程,包括DC/RF功率级别、速率、时间和冷却参数。VARIAN 3125还允许样品在过程中进行磁性旋转。这种旋转增强了沉积的均匀性。3125离子源溅射模型是实验室和小规模生产溅射涂层应用的有效、用户友好的解决方桉。它允许用户自定义其流程以满足其特定要求。它的优化和稳定性使得它能够可靠地用于各种溅射应用中。