二手 VARIAN 3125 #9082989 待售

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製造商
VARIAN
模型
3125
ID: 9082989
Horizonatal Resistance Source Deposition System, parts system Includes: Planetary, resistance sources Substrate heater controller Resistance deposition controller Ion gauge Rotation controller Quartz film thickness controller Shutter controller.
VARIAN 3125是一种溅射离子泵(Sputter Ion Pump,SIP),旨在为研究人员提供预算极低的实验室等离子体设备。该系统因其尺寸而被称为"微等离子体"单元,是需要对沉积参数进行非常精细控制的研究的理想选择。该机包括一个3125溅射离子泵,带有一个金阳极,铜源(目标)和4mm的目标到基板距离。SIP旨在产生低能等离子体,将离子化气体物质(如氢或氮气)溅射到底物样品上。这个过程将材料从目标转移到基板上,涂在一个薄的均匀层中。使用各种设置操作该工具。阳极电压设置发射的离子能量和热电子发射电流密度,而源电压控制目标电极放电过程。底物与目标之间的距离控制着生成离子的速度,从而控制着目标材料到达底物的比例。VARIAN 3125是一种闭环加压资产,意味着操作不需要外部气体,样品不存在污染风险。这也不需要昂贵和耗时的气体供应维护和补充。该模型能够在目标到基板距离的0-2mm范围内进行可靠的溅射作用,单目标沉积的最大建议距离为4mm。3125在将低温、低质量和低水平材料沉积到样品上而不会造成损坏或污染时特别有用。例如,该设备通常用于将样品涂层沉积在各种基板上,包括玻璃、陶瓷和合金。此外,对于样品的电学和光学性能的纳米级沉积或微调,强烈推荐使用该系统。VARIAN 3125 Sputter Ion Pump是一个紧凑的单元,具有精确的功能,非常适合需要一流性能且预算较低的研究应用。它体积小,操作设置广泛,溅射过程可靠,是全世界研究实验室的宝贵工具。
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