二手 VARIAN 3180 #69386 待售
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已售出
ID: 69386
晶圆大小: 4"
Sputtering systems, 4"
Throughput: 60 wafer/hr for 1 micron aluminum alloy deposition, independent of water size
Film thickness uniformity, 100mm: +/-5% across wafer for aluminum alloys excluding out 0.0625" of water
Film thickness uniformity, 125mm: +/-6.5% across wafer for aluminum alloys excluding out 0.0625" of water
Vacuum system:
Deposition chamber: Varian Cryostock-12FA closed-loops helium pump, 12"
Load lock: 14cfm
Deposition source:
Type: close-coupled dc conical Magnetron
Orientation: vertically mounted for sideways sputtering
Deposition rate: ~12,000A/min
Cathode: 7" dia., annular
Cathode life: 2000 one-micron
Deposition DC power supply: 12kW
Operating
Crated.
VARIAN 3180是一种高性能的溅射设备,可为各种应用提供最佳的涂层性能。该系统由一个直流磁控管溅射单元组成，该单元能够实现高达180 nm/min的高沉积速率以及出色的覆盖范围。溅射涂层是一种涉及大功率直流（DC）磁体、沉积室和真空机的过程。磁控管溅射工具提供了对矿床厚度和表面质量等特性的终极控制。3180由PLCDAQ软件控制,该软件能够控制资产内的所有流程。软件还允许用户选择源材料、腔室几何形状、工艺周期以及溅射涂层工艺的所有其他参数。此外，软件可以存储模型中使用的所有配方，以便于更快的启动时间和增加用户的便利。VARIAN 3180由几个对有效溅射涂层很重要的部件组成。例如，设备的腔室装有长寿命衬里，可提供更好的保护，防止污染、磨损和物理损坏。此外，该腔室还具有良好的气体密封性，能够适应大气和高真空过程。腔室提供了一个特殊的均匀性水平，允许一个没有阴影效果的基板的均匀涂层。射频驱动的离子束源提供均匀且比热蒸发速率更高的基板加热。高压驱动的射频供电离子源更能提高沉积速率。溅射源也可以调整，以确保改善对目标材料的离子轰击，从而使溅射涂层的性能提高，质量更高。3180提供了广泛的优势，使其成为优越的溅射系统。它提供卓越的涂层性能，覆盖范围优越，操作可靠稳定，速度和均匀性优越。此外，该单元高度可定制，能够容纳各种腔室几何形状和原始材料。因此,VARIAN 3180非常适合一系列工业和科学应用,为卓越的涂层性能提供了必要的可靠性、速度和准确性。
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