二手 VARIAN 3190 #9184622 待售

VARIAN 3190是一种高精度溅射设备，设计用于将超薄膜层沉积到广泛的基板上。主要用于制造半导体芯片、平板显示器、太阳能电池等光电器件。溅射系统的工作原理是使用一个涉及磁控管阴极的过程，该过程安装在真空室的顶部。该磁控管阴极由交流电（AC）电源通电，并用高能离子轰击目标材料。这种轰击导致目标材料溅射，喷射带正电荷的离子，这些离子随后被吸引到放置在真空室中的基板上。这些离子沉积在基质上，形成薄膜层。3190具有许多特性,非常适合薄膜沉积。电子控制单元允许精确编程功率、占空比、沉积速率、压力等溅射参数。该机还具有高精度快门机构，用于真空室的精确关闭和打开。这一特征对于薄膜层的均匀一致沉积具有重要意义。VARIAN 3190提供了多种溅射配置，允许用户将不同类型的基材和目标材料融入沉积过程。该工具可以配置单个磁控管阴极，也可以在堆迭配置中使用多个磁控管。溅射过程可以通过增加外部磁场来进一步增强，让使用者量身定制溅射离子的方向，以制造出更均匀、缺陷较少的薄膜。3190资产是一种可靠、用户友好的溅射模型。它易于使用，在薄膜沉积方面具有极好的均匀性。它是制造各种光电等器件的理想之选，能够沉积具有优异稳定性和性能的薄膜。