二手 VARIAN 3190 #9269838 待售

VARIAN 3190是一种先进的直流电（DC）磁控管溅射设备，设计用于材料科学、研发中的精密薄膜沉积应用。它具有独立或同时沉积多达四种材料的能力，以及目标到基板的距离控制和终点目标侵蚀检测。3190最多可容纳四个目标,采用强大的三磁控管配置来优化薄膜均匀性和沉积速率。它独特的模块化设计使多个磁控管的快速安装和易于交换的溅射源。多磁控管溅射配置在研发环境中是首选，因为它能够补偿源不对准和充电效应。系统上专有的Kernex™直流电源具有高达700瓦的控制能力,可精确控制溅射速率和偏置电压。完全隔离的目标电源为所有磁控管提供安静、清洁的电源,从而可以精确控制溅射速率。电源调节电路有助于消除由电源尖峰引起的电弧和溅射均匀性问题。腔室几何形状与高真空抽油机一起，为最苛刻的基板沉积和薄膜生长需求提供了所需的稳定性和均匀性。其快速腔室疏散和压力控制是业内最先进的之一。此外,机器在沉积过程中监视并保持目标与基板之间的稳定距离,提供均匀的薄膜沉积,且受目标侵蚀的干扰最小。VARIAN 3190用户友好,具有强大的开放式平台体系结构,可轻松集成到现有的材料沉积系统中。这使得该工具成为各种材料科学、研究和开发应用的理想溅射资产。其独立或同时沉积的能力、目标对基板的距离控制和目标侵蚀控制使其成为光子、超晶格和半导体器件制造的理想选择。