二手 VARIAN 3290 #9157043 待售
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已售出
ID: 9157043
晶圆大小: 6"
Sputtering system, 6"
P/N: 983-4353
TiW, AlCu, Hard etch
CTI-Cryogenics On-Board (8) cryopumps
V200-A & V200 turbo pump
(2) MKS 250B controllers
FLUKE 1722A Instrument controller
FLUKE 8840A Multimeter
Wide range thin film monitor
Sputtering power supply
Vacuum system controller
880RS Vacuum ionization gauge
RF Matching controller
Cassette motor control
Temp monitor
Dual CTI-Cryogenics On-Board controller
Pfeiffer DCU controller
MKS vacuum controller
Multi-range DC sputtering power supply
(2) Interlock status display
(2) Deposition source control
RFPP RF10S RF generator
(3) CPI CPW-12/480 power supply
(1) AC Power transformer/conditioner
3 Phase, 480 V, 22 A, 60 Hz.
VARIAN 3290是为薄膜涂层沉积而设计的高度先进的溅射设备。其优越的性能得益于先进的蚀刻技术、离子源电源、四头溅射室、旋转爪晶片处理机构和全自动质量流过程控制系统等技术的结合。它能够在薄膜厚度低至180纳米的图样上实现可重复的均匀性。3290使用双室蚀刻单元。这台机器能够对金属、电介质和聚合物进行稳定的蚀刻。四头溅射室通过在源和基板之间旋转时间相关的可编程爪来工作。该磁场产生离子溅射能量，用于沉积均匀的薄膜涂层。旋转爪晶片处理机制允许在过程之间自动控制和高效运输晶片。VARIAN 3290附有全自动的质量流过程控制工具。这包括图形用户界面（GUI）,允许用户控制诸如工艺速度、气流和目标材料厚度等参数。GUI还提供了整个过程的编年史,包括开始和结束时间,以及过程中发生的所有事件的详细日志。溅射资产有一个令人印象深刻的功能列表，这将允许用户实现优越的薄膜涂层。这包括电介质、金属和聚合物的沉积。磁控管溅射源沉积速率高，可涂覆精度高、均匀的涂层。它还有一个大的腔室容量，能够涂覆大批量的晶圆。3290的功率控制精度很高，可以0.1微米增量调节。这样可以精确控制涂层厚度。此外，双室蚀刻模型能够对各种材料进行稳定、可重复的蚀刻。总体而言,VARIAN 3290是一种高度先进的溅射设备,专为符合行业标准的薄膜涂层而设计。它的一套特性和技术使其成为市场上技术最先进的溅射系统之一。
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