二手 VARIAN M 2000 #9278013 待售

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VARIAN M 2000
已售出
製造商
VARIAN
模型
M 2000
ID: 9278013
晶圆大小: 6"
Sputtering system, 6" Wafer type: Flat Target assy (2) Cassette batches: 25 Slots Cassette environment: Vacuum Main frame with (4) chambers (6) Racks Chiller Power rack (2) Monitors Pump power interface (2) Compressors (5) Oil pumps Damage parts: CE2 Chamber A2 Rack for chamber A2 Quantum source Missing parts: Turbo pump including pipe fittings Wafer temperature controller Heater power supply controller.
VARIAN M 2000是用于薄膜沉积的精密溅射设备.它装有溅射薄膜的所有必要部件,如溅射枪、微调定位、过程控制、诊断和真空系统。溅射枪的设计提供快速精确的定位,允许最多三个目标同时溅射,方便。其通电的等离子体源使溅射材料与底物对齐,使得整个工作区域内的膜沉积均匀。该枪还配备了易于使用的控制面板,可以对溅射过程进行现场监测和控制。VARIAN M 2 000还提供精确的位置控制,使溅射材料更薄、更均匀地沉积,确保整个工作区域的薄膜厚度一致。位置感应控制器可实现溅射枪的精确旋转和倾斜。当以一定角度溅射复杂基板时,这种精确的旋转和倾斜控制尤为重要。M 2000的过程诊断功能允许实时监视和控制溅射过程。这类诊断包括粒子检测、真空监测、基板温度测量、气流感应和压力传感器读数。这使操作员能够监视和分析溅射过程,以确定最有效的过程参数。M2 000还配备了真空装置,当与其他特性结合使用时,可以提供极受控制的沉积过程,从而保证最精确的薄膜沉积。该机可控制泄漏率、表面粗糙度、薄膜厚度等详细参数。总之,VARIAN M 2000是一种用于精密薄膜沉积的溅射工具.其精密溅射枪、精密位置控制、工艺诊断、超控真空资产,使得VARIAN M2 000成为任何研究要求或商用薄膜沉积要求的理想选择。
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