二手 VARIAN / TEL / TOKYO ELECTRON MB2-730 HT #77413 待售

TEL MB2-730高通量溅射设备是为制造和研究应用而设计的溅射系统。该装置非常适合纳米级沉积，并提供了更高水平的工艺控制、性能和可靠性。它具有双磁控管射频溅射源，以及先进的多面电离和直流溅射目标，能够生产高质量、均匀的薄膜。该机还有一个集成的高真空室，能够实现超高真空水平的高纯度薄膜沉积。该工具提供了许多出色的功能,使其非常适合各种工业和学术应用。它有一个快速响应控制套件，使资产能够在操作周期内在其流程性能的峰值或接近峰值时运行。这减少了重新校准的需要,并在生产过程中节省了时间。该模型还具有多种配置选项，以允许各种类型的薄膜沉积，以及不同的溅射目标材料。MB2-730高通量溅射设备还具有先进的电源管理功能。该系统具有低噪声电源,该电源经过优化以达到最佳效率水平,可提供卓越的电源传递和最小化的功耗。电源与直流和射频溅射源兼容，并提供一系列的输出电平，以适应各种目标材料和基板尺寸。此外，该装置有一个离子源，通过在沉积过程中提供更高浓度的离子，有助于扩大沉积膜的厚度。这减少了对多个沉积周期的需求，导致生产运行时间缩短，生产成本降低。而且，它允许更容易和更精确地控制溅射过程，从而产生一致的薄膜厚度和均匀性。最后，MB2-730高通量溅射机采用先进的安全特性，保证了工具在工业和学术环境中的安全运行。安全特性包括可密封腔室，可用于隔离射频和直流大功率电源，防止人员在操作过程中进入活动区域。此外,资产还具有实时安全模型,可监控设备和任何样品材料的热、机械和电气状况,确保每项工作的安全和准确运行。