二手 NIKON NSR SF120 #9207084 待售
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ID: 9207084
Stepper, 12"
Front In-line FOUP / ACT12
(6) Reticles, 0.25"
Variable reticle microscope
Main body:
Magnification: 1/4 Reduction
i-Line light-source, 365 nm
Resolution: 0.28um
NA Variable lens: 0.50 - 0.62
Exposure: 25 mm x 33 mm
3-Axis (5) PIEZO Lens adjust
PC System hardware:
Type: DS10
UPS System
Alignment sensor:
LSA
FIA
AIS
No LIA
Interferometer system:
Wafer stage
Reticle stage
Mercury ARC lamp: 5.0 kW
Multi focus system
Table leveling system (VCM)
Wafer loader:
Type III
Wafer type: Notch
Front In-line FOUP + ACT12
Single wafer cassette
Wafer pre-align type: NC PRE2
Reticle loader:
SMIF Type (OHT)
(2) Indexes
Barcode reader
PPD3 Particle checker
Control rack:
Type: Normal (Right)
Cable length: Normal
Chamber:
S52 Sendai chamber
CVCF NEMA (1,2)
BATC / CATC / LLTC: 23.0°
PM Data:
Wafer Flatness:
Maximum: 1.270 um
L.F Maximum: 0.790 um
Lamp:
Power: 1497.932 mw/cm²
Uniformity: 2.359%
Lens distortion:
Maximum X: -0.012 - 0.013um
Maximum Y: -0.017 ~ 0.016um
Lens inclination:
Maximum: 0.060 um
Curvature: 0.023 um
AST(V-H): 0.051 um
UR-LL: 0.012 um
UL-LR: 0.021
Illumination system:
ID1(L-NA/I-NA): ConV 0.52/0.36
ID2(L-NA/I-NA): ANN 0.62/0.5
ID3(L-NA/I-NA): ConV 0.62/0.43
ID4(L-NA/I-NA): ConV 0.62/0.36
Power supply: 208 V, 3-Phase, 60 Hz
2003 vintage.
NIKON NSR SF120是一种具有NIKON专有"共振扫描步进器"（RSS）技术的高精度晶圆和掩模对准设备。它能够在一系列要求苛刻的步进应用程序中实现高吞吐量和高精度。适用于掩模和晶片加工。该系统采用高速6轴级来获得1-nm定位分辨率。舞台的最大加速度为30 m/s2,从而缩短了周期时间,并减少了修饰框架。晶片分步器能够曝光和对准广泛的光掩模。它具有9波长（包括i-line、g-line和u-line）的非接触对准光源，为晶圆和光掩模提供高精度对准。该单元还具有可编程对齐算法，以进一步提高精度。此外，通过引入专有的二维配准标记来保证高精度的对齐和配准可重复性（1.5西格玛）。NIKON NSR-SF120采用直观的用户界面和优化的配方生成工具来减少设置时间。NIKON专有的光轴校正函数用于保持光轴的垂直度（轴上垂直度），用于广泛的应用。晶圆步进器配备了多种速度和精度选项。它使用一种专利的自动传感器机器来检测残留材料。默认的自动传感器可以检测尺寸从0.1微米到10mm的任何对象。机器还提供注册搜索模式，快速准确地注册晶圆和掩模。NSR SF 120还设计了一套全面的安全功能。它采用了一种原位保护工具，以保护用户免受有害物质的侵害。它还具有绝对位置监视器,可以在检测到资产状态的任何更改时快速检测问题。NSR-SF120是一种完全高精度的晶圆步进器,可满足生产级应用程序的高需求。它的能力和先进的技术使它能够提供出色的对齐精度和吞吐量。它为需要高精度对准和配准晶片和光掩码的应用提供了经济高效的解决方桉。
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