二手 NIKON NSR SF200 #9220471 待售
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ID: 9220471
晶圆大小: 6"
KrF Stepper, 6"
Resolution: 150 nm
Handedness: Inline left or right
Altitude: Varies by site
Chamber type: Standard
Variable numerical aperture: Maximum 0.63
sPURE
RET Apertures iNA: 0.50, 0.38, 0.24, 0.19, 0.12, 0.38
Quick reticle change (QRC)
Reticle size: 6"
Field image alignment system (FIA)
Laser step alignment system (LSA)
Phase contrast FIA
TTLFC2
Pre-alignment 2
Wafer stage: Air bearing / Linear motors
Ceramic wafer holder
Wafer loader
Chip leveling included
Multipoint focus/level
NIKON SECS II GEM Interface
GIGAPHOTON KrF Excimer laser source
Options:
Resolution enhancement technology (RET)
Reticle barcode reader
Extended wafer carrier table
Pellicle particle detector
2003-2004 vintage.
NIKON NSR SF200是一种高端晶圆步进设备，设计用于生产半导体、MEMS和MOEMS。它具有多种光学功能和广阔的视野,非常适合复杂的光刻工艺。NIKON NSR SF 200配备了扫描仪式还原投影镜头和超高分辨率对准传感器。采用NIKON专有光学设计的扫描仪式还原投影镜头，提供0.55至0.75的数值孔径，提供高分辨率2580 dpi μ 5米电磁场发生器（FEG）。即使使用高度复杂的结构,这也能在晶片上实现出色的图像均匀性和分辨率。该系统还配备了NIKON Double Movable Proximity Stage （DMPS）和缺陷检测算法，使晶圆和光刻面罩的对准更加精确。DMPS技术消除了晶圆级和掩模级之间的缝合问题,提供了高精度的光刻工艺。此外,缺陷检测算法允许在光刻生产过程中扫描晶片,监控不规则和故障,以帮助进行缺陷校对。NSR SF200具有NIKON专有的过程控制单元,提供用户友好的操作、高级过程信息跟踪和实时调试。工艺控制机优化图桉、曝光参数、车削时序和焦点，确保最佳光刻效果。此外,NSR SF 200还配备了空气冷却工具,可稳定运行并改善热均匀性。它还提供Smart Recipe Master软件，允许用户创建和存储自己的食谱，以及与其他用户共享食谱。总之,NIKON NSR SF200是一种强大、用途广泛、用户友好的晶圆步进器资产,旨在满足现代半导体制造能力的需求,具有大量的光学和工艺控制功能。
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