二手 TEL / TOKYO ELECTRON Expedius #9131184 待售

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TEL / TOKYO ELECTRON Expedius
已售出
ID: 9131184
晶圆大小: 12"
Batch wafer processing system, 12".
TEL/TOKYO ELECTRON Expedius是一个用于製造产品的湿式站。它是一种多功能设备,旨在实现高精度、高效的制造和工艺控制。它结合了电子控制(EC)技术和各种各样的等离子体源,所有这些都能够实现高精度和高效的过程控制。TEL Expedius湿站用于跨线前端(FEOL)和线后端(BEOL)处理的半导体过程中的各种应用。它可以容纳晶圆清洗、湿蚀刻、化学机械抛光(CMP)、电化学沉积(ECD)等各种工艺。欧共体技术可以在更大的区域内实现工艺条件的均匀性。这是通过提供各种电流密度设置来实现的,这些设置可以根据应用程序的类型进行更改。晶片可以暴露于各种等离子体源中,从而优化沉积或蚀刻速率以达到峰值工艺性能。此外,它还具有有助于防止因接触危险化学品而对零件造成污染的安全特性。在控制方面,设计了TOKYO ELECTRON Expedius系统以提供易用性。其直观的操作单元使操作员能够快速、轻松地设置和控制过程条件。它为控制温度、电流和电压提供了非常精确的参数。它还具有耐用的人机界面,并有可靠的算法作为后盾,能够高效运行。Expedius的占地面积很小,非常适合在清洁环境中安装。此外,即使在存在腐蚀性化学品的情况下,其坚固的设计也能持续运行。它还为各种应用程序提供精确的过程控制。例如,同一台机器可以用于不同材料的沉积或蚀刻,如氧化物、聚硅和金属。总而言之,TEL/TOKYO ELECTRON Expedius是专门为各种工艺应用而设计的高性能、高效的湿式站。其高度精确的EC技术和等离子体源提供了很好的过程控制,而其用户友好的界面使操作变得简单高效。即使在存在腐蚀性化学品的情况下,它也是一种可靠的解决方桉,非常适合在清洁环境中进行集成。
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