二手溅射系统待售
溅射系统设备是各行业薄膜沉积工艺的关键组成部分，包括电子、光学和能源。这些系统设计用于通过溅射过程将不同材料的薄膜沉积到基板表面上。溅射过程涉及用通常由等离子体产生的高能离子轰击目标材料。这种轰击导致目标物质的原子或分子从表面喷射出来，并向底物行进。到达基板时，这些喷出的颗粒凝结形成薄膜。溅射系统设备由几个关键部件组成。主要部件是溅射室，它容纳目标材料和基板。在室内，创造了真空环境，以防止空气分子的干扰。通过气体电离产生的等离子体负责离子轰击。溅射系统设备的一个关键组成部分是目标材料本身。目标通常由将作为薄膜沉积到基板上的材料制成。目标材料的选择决定了最终薄膜的性质，包括其组成、结构和厚度。溅射系统设备的其他重要部件包括为气体电离和产生等离子体提供必要能量的电源，以及在沉积过程中固定基板位置的基板支架。总体而言，溅射系统设备在精密控制其性能的优质薄膜的生产中起着至关重要的作用。这些系统能够开发和制造先进的电子设备、光学涂层和各种应用的节能涂层。
製造商:
显示第
1-30
of
483
发现的结果
过滤器
全部清除
过滤器
483 结果
製造商
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(4)
-
(1)
-
(10)
-
(2)
-
(4)
-
(1)
-
(15)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(14)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(91)
-
(1)
-
(1)
-
(2)
-
(2)
-
(1)
-
(2)
-
(11)
-
(22)
-
(16)
-
(1)
-
(1)
-
(3)
-
(3)
-
(2)
-
(1)
-
(5)
-
(1)
-
(1)
-
(9)
-
(1)
-
(1)
-
(12)
-
(3)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(3)
-
(1)
-
(2)
-
(2)
-
(6)
-
(1)
-
(4)
-
(3)
-
(13)
-
(3)
-
(1)
-
(2)
-
(6)
-
(66)
-
(5)
-
(6)
-
(1)
-
(6)
-
(2)
-
(5)
-
(1)
-
(2)
-
(15)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(3)
-
(63)
-
(3)
-
(1)
-
(4)
-
(1)
-
(1)
-
(11)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(3)
-
(1)
-
(1)
-
(3)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(7)
-
(4)
-
(2)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(3)
-
(4)
-
(6)
-
(233)
-
(7)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(71)
-
(2)
-
(2)
-
(11)
-
(2)
-
(4)
-
(1)
-
(1)
-
(4)
晶圆大小
-
(1)
-
(25)
-
(1)
-
(1)
-
(7)
-
(1)
-
(1)
-
(13)
-
(1)
-
(2)
-
(3)
-
(1)
-
(10)
-
(67)
-
(2)
-
(57)
-
(1)
优质的
-
(1)
-
(3)
-
(2)
-
(2)
-
(3)
-
(4)
-
(7)
-
(6)
-
(8)
-
(13)
-
(3)
-
(8)
-
(11)
-
(14)
-
(8)
-
(8)
-
(1)
-
(11)
-
(12)
-
(22)
-
(9)
-
(6)
-
(4)
-
(14)
-
(11)
-
(3)
-
(2)
-
(3)
-
(1)
-
(3)
-
(4)
-
(4)
-
(2)
-
(2)
-
(2)
-
(1)
-
(3)
-
(1)
-
(2)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(458)
找不到你要找的？