二手 DAINIPPON MP-2000 #190876 待售

DAINIPPON MP-2000是在创建半导体器件时光刻工艺中使用的光刻设备。该系统便于在光刻过程中选择性过滤光，使所需的遮罩设计区域暴露于光中并转移到晶片上。此过程用于在晶圆上创建阵列化表面,后来用于蚀刻和其他处理。MP-2000单元使用高反射率铝镜和负极或正极光抗蚀剂的组合来反射整个区域波长一致的晶圆外的光。这使得晶片的选定区域能够在表面的其余部分不受保护的情况下经历反射。遮罩设计印在光敏材料上，然后暴露在光入射场下。设计的区域暴露在光线下并得到固化，而面罩外的区域则被保护免受光线照射。此过程在整个晶片上重复,并具有所有必要的掩蔽设计。DAINIPPON MP-2000机中的铝制镜面反射性强，耐用。它是一种高度电阻的材料，能够在过程中提供快速照明。这也减少了使用的能量量，从而减少了运行工具所需的电量。反射镜还有助于在光刻胶资产内提供一个持续调节的环境。MP-2000模型还使用负极或正极光抗蚀剂,以允许所需的区域暴露在光下,同时保护晶圆的其余部分。光致抗蚀剂是一种液体材料，可以与形成很像蚀刻图桉的掩模的合适介质（如纺丝膜或聚合物）结合使用。当暴露在光线下，光刻胶内的分子会分解，让面膜的设计得以转移。光致抗蚀剂系统是光刻的重要组成部分，DAINIPPON MP-2000为晶片的选择性光过滤提供了高度耐用和可靠的设备。其反射铝镜在提供快速照明方面效率很高，负极或正极光抗蚀剂允许所需的区域免受光入射场的侵袭，创造出完美的光刻环境。