二手 BENEQ P400A-034 #293830577 待售
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ID: 293830577
Atomic Layer Deposition (ALD) system
Chamber
Gas/precursor manifold
Control enclosure
Norcimbus mini monitor
Plus gas-panel monitor
JULABO / FP 51
Refrigerated circulator
EDWARDS / iH600
Vacuum pump
Vacuum vessel
MKS mass-flow control
Intellisys IQ throttling valve
Laptop/process interface
Power supply: Rated 3×208 VAC + N + PE, 60 Hz.
BENEQ P400A-034是一种最先进的扩散炉设备，设计用于在半导体材料中精确、均匀地扩散掺杂剂。这一先进的熔炉系统配备了一系列附件和特点，便于高效和可靠的扩散过程，使其成为半导体工业研究和生产的重要工具。P400A-034扩散炉主室由优质材料构成，保证了整个过程的均匀温度分布和热稳定性。这个腔室可以容纳各种各样的样本量和形状，使其用途广泛，适合各种应用。腔内的加热元件设计为提供精确的温度控制，使用户能够以高精度达到所需的扩散剖面。BENEQ P400A-034扩散炉的主要特点之一是其先进的气体输送装置。这台机器能够精确控制气体流量和组成，确保不同掺杂剂和材料的最佳扩散条件。气体输送工具包括质量流量控制器、压力调节器和气体溷合功能，允许用户根据自己的特定要求量身定制气体大气。为了进一步加强扩散过程，P400A-034扩散炉配备了先进的温度分析资产。此模型允许用户实时监视和控制腔室内的温度梯度,从而确保在整个样品中均匀的扩散轮廓。温度分析设备还可以与外部软件进行数据记录和分析，为扩散过程提供有价值的见解。除了先进的功能外，BENEQ P400A-034扩散炉还配备了一系列附件，进一步增强了其功能。这些附件包括用于样品处理的石英和碳化硅船，以及便于装卸样品的晶圆托架和托盘。该炉还配备了安全联锁系统，确保用户在运行和维护过程中受到保护。P400A-034扩散炉由用户友好的界面控制，该界面便于扩散过程的操作和编程。界面具有触摸屏显示屏和直观的控件，使用户设置和监控扩散运行变得简单。该炉还有多种预先编程的扩散配方，可以方便地访问和修改，以适应特定的要求。总体而言，BENEQ P400A-034扩散炉是一种前沿工具，为半导体行业的扩散过程提供无与伦比的性能和可靠性。凭借其先进的特点、精确的控制和多功能性，这种炉单元是研究实验室、大学和半导体制造商寻求获得优越掺杂扩散效果的必不可少的资产。
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