二手曝光系统待售
曝光系统设备是指用于半导体制造和光刻工艺领域的一系列设备和机械。这些系统被设计用来将光刻涂层的晶片暴露于特定的光图样中，从而能够将电路设计精确地传递到晶片的表面。曝光系统设备由几个关键部件组成。第一种是光源，通常是激光或汞弧光灯，它发出所需的波长的光。这种光然后通过一系列的反射镜、透镜和滤镜来控制它的强度、偏振和光谱特性。之后，光线被聚焦到一个标线上，该标线包含要传递到晶片上的所需图样。使用复杂的对齐系统精确定位标线,以确保精确的模式复制。此外，曝光系统设备还包括先进级系统，可在曝光过程中精确移动和定位晶片。为控制接触参数，这些系统采用软件和计算机控制系统，对接触时间和剂量等各种参数进行实时监测和调整。这确保了一致和可靠的接触结果。曝光系统设备在半导体制造中起着至关重要的作用，提供了创建高质量集成电路所必需的精确和可重复的光照。这种设备的创新使设备小型化、产量提高和生产吞吐量提高。总体而言，曝光系统设备是半导体制造过程的重要组成部分，能够以最高的精度和精确度在晶片上创建复杂的电路模式。
製造商:
显示第
1-30
of
309
发现的结果
过滤器
全部清除
过滤器
309 结果
製造商
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(9)
-
(3)
-
(1)
-
(3)
-
(5)
-
(2)
-
(2)
-
(1)
-
(1)
-
(2)
-
(103)
-
(10)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(2)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(9)
-
(1)
-
(2)
-
(1)
-
(2)
-
(1)
-
(4)
-
(4)
-
(65)
-
(1)
-
(2)
-
(1)
-
(2)
-
(2)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(9)
-
(1)
-
(1)
-
(2)
-
(4)
-
(1)
-
(10)
-
(1)
-
(2)
-
(3)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(2)
-
(9)
-
(2)
-
(1)
-
(1)
-
(8)
-
(1)
-
(2)
-
(1)
-
(1)
-
(2)
-
(6)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(3)
-
(6)
-
(4)
-
(1)
-
(79)
-
(3)
-
(1)
-
(13)
-
(5)
-
(5)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(4)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(9)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(2)
-
(1)
-
(1)
-
(3)
-
(5)
-
(1)
-
(53)
-
(1)
-
(6)
-
(2)
-
(1)
-
(7)
-
(2)
-
(3)
-
(2)
晶圆大小
-
(1)
-
(14)
-
(1)
-
(2)
-
(1)
-
(5)
-
(1)
-
(27)
-
(2)
-
(1)
-
(1)
-
(37)
优质的
-
(3)
-
(2)
-
(6)
-
(5)
-
(1)
-
(5)
-
(4)
-
(3)
-
(4)
-
(11)
-
(10)
-
(6)
-
(6)
-
(4)
-
(7)
-
(9)
-
(4)
-
(2)
-
(8)
-
(6)
-
(6)
-
(5)
-
(2)
-
(3)
-
(2)
-
(5)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(172)
找不到你要找的？