二手光刻机待售

掩模对准器是半导体工业中用于生产集成电路(IC)的一种光刻设备。它被设计成精确对齐和暴露包含所需图样的掩模到基板上,通常是硅片。遮罩对齐器在光刻过程中起着至关重要的作用,这涉及使用光将遮罩图样传递到晶圆上。遮罩对准器通常由几个关键组件组成,包括光源、遮罩支架、用于定位晶片的舞台和对准光学器件。光源提供必要的照明,通常是紫外线的形式,以使光刻剂暴露在晶圆上。面罩支架在曝光时牢固地将面罩固定到位,确保与基板精确对准。该级可以精确定位晶片,而对准光学器件则可以将掩模阵列对准晶片上的目标位置。掩模对准器的主要优点是能够实现高精度和高分辨率,使晶片上产生复杂的图样。此精度对于IC制造至关重要,因为它直接影响最终产品的性能和功能。此外,掩模对齐器通常能够处理大量晶片,使其适合大批量制造。总之,在半导体工业中,掩模对准器是必不可少的工具,它允许将掩模图样精确对准和暴露在晶片上。它们的高精度和分辨率使其在生产集成电路方面具有宝贵价值,有助于技术的持续进步。

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