二手 BENEQ TFS 200 #293683751 待售
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ID: 293683751
晶圆大小: 8"
Atomic Layer Deposition (ALD) system, 8"
(2) Heated source bottles
(4) Ambient temperature source bottles
Gases: O3, H2O, H2O2
Ozone generator
ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER Dry pump
Pumping speed: 100 m³/hr
No load lock.
BENEQ TFS 200是一种最先进的扩散炉,设计用于半导体、光学和光伏行业的精确、均匀的薄膜涂层和热处理应用。这款高性能设备具有先进的功能和创新的技术,可提供卓越的效果并满足现代制造工艺的严格要求。TFS 200配备了坚固可靠的加热系统,确保整个工艺室的温度分布均匀,为薄膜的沉积和扩散创造了理想的环境。该炉可达到高达1200摄氏度的工作温度,为各种材料加工应用提供充足的热能。BENEQ TFS 200的关键亮点之一是它的精确控制单元,它可以让用户以高精度和重现性调整温度、压力、气体流量等各种参数。这种控制水平使研究人员和工程师能够微调沉积过程,实现厚度和组成精确的高度均匀的薄膜涂层。扩散炉设有多个气体进气口,允许引入多种前体气体和掺杂剂来量身定制沉积薄膜的性能。该机还采用先进的气体溷合和输送工具,确保精确和一致的气体流量,促进优秀的薄膜质量和再现性。为了便于操作和监测沉积过程,TFS 200配备了一个方便用户的界面,提供关键流程参数和资产状况的实时反馈。此外,该模型还可以轻松地与外部监控系统集成,以实现无缝自动化和数据记录。BENEQ TFS 200的设计考虑到安全性和可靠性,具有坚固的结构和先进的安全联锁功能,可防止设备故障并确保操作员保护。设备还包括高级诊断和监控工具,以实现主动维护和故障排除,最大限度地减少停机时间,并最大限度地提高生产效率。除了基础扩散炉外,BENEQ还提供一系列附件和可选功能,以增强TFS 200系统的能力和灵活性。其中包括额外的气体处理模块、基板支架和定制沉积室,以适应特定的工艺要求和实验设置。总体而言,BENEQ TFS 200扩散炉是薄膜沉积和热处理应用的通用可靠工具,提供高性能、精确控制和先进功能,以满足现代工业和研究的苛刻需求。TFS 200具有卓越的性能和灵活性,是从事半导体、光学和光伏领域工作的研究人员和工程师的重要工具。
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