二手 CANON / ANELVA COSMOS 300 I-1201 #9210942 待售

CANON/ANELVA COSMOS 300 I-1201扩散炉是一种高精度沉积系统，设计用于制造具有原子级精度的大面积装置结构。该系统装有12英寸晶圆容量炉，能够进行超高真空操作，用于广泛材料的热处理，包括蓝宝石、硅、氧化/掺杂和光学涂层。它采用热壁设计，将气体引入基板表面或径向供给，提供均匀的温度和气流，以精确控制沉积过程。它还包括一个300毫米晶圆加工区，该区保护操作员，并允许采用各种自动化工艺，使系统更加灵活。它利用直流和射频电源进行双极和单片过程，有助于充分控制过程。CANON COSMOS 300 I-1201扩散炉适用于多晶硅、硅化钨、硅化钛、硅化铝、硅外延等高温沉积过程，变温范围高达1250 °C，真空范围为5 x 10-8 torr。此外，它还支持最多四种气体用于沉积和蚀刻过程以及可选的液体注入。其氧气浓度范围优化，通过干式或湿式氧化过程支持氧化物的沉积，其氢气/氮气和氙气/氢气比可以很容易地修改，以准确控制蚀刻速率。ANELVA COSMOS 300 I-1201扩散炉配有各种有用的配件，如Epi环晶片卡盘和样品探头、用于控制气流的多气体出口、用于控制晶体生长的高压电源以及用于直接供气的高压气瓶支架。它的速变石英和氧化铝敏感器可以容纳直径达300毫米的晶片，使得它们可以方便地交换各种工艺要求。此外，它的PIP（压力间接可编程）技术和高达4气体控制器，使出色的腔室压力控制和配方记忆可重复准确的过程。因此，这种扩散炉提供了可靠和高质量的沉积工艺。