二手 CENTROTHERM E2000 HT 320-4 #293774189 待售
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ID: 293774189
晶圆大小: 6"
优质的: 2007
PECVD Systems, 6"
Furnace tubes:
ALOx and PEALD
A-Si PECVD
LPCVD
Thermal and wet oxidation
PECVD Gases: SiH4, NH3, N2, H2, N2O, TMA, O2, PH3/B2H6, Doping gas
A-Si Gases: N2, Ar, SiH4, PH3/B2H6, N2O, O2
LPCVD Gases: N2, SiH4, PH3, B2H6
2007 vintage.
CENTROTHERM E2000 HT 320-4是一种高温扩散炉,设计用于半导体制造和其他需要精密热处理工艺的行业中的热处理的精确控制。这种先进的炉型提供了广泛的特点和能力,以满足现代高科技应用的苛刻要求。E2000 HT 320-4的核心是其高温能力,最高工作温度为1300 °C。这允许各种材料的精确退火、氧化和扩散,确保半导体器件和其他电子元件的最佳性能和可靠性。炉子配有坚固耐用的加热设备,在整个工艺室内提供快速加热和优异的温度均匀性,最大限度地减少温度梯度并确保一致的结果。CENTROTHERM E2000 HT 320-4具有垂直炉配置,允许高效的晶圆处理和整个工艺室均匀的气流。这种设计允许对直径达300 mm的晶片进行高通量处理,使其适合需要大批量的生产规模操作。该炉还配备了先进的气体输送和控制系统,确保对工艺气体进行精确管理,以取得优化的工艺结果。E2000 HT 320-4的关键优势之一是其先进的过程控制能力。该炉配备了最先进的控制系统,允许编程具有精确温度斜坡、浸泡和冷却剖面的复杂热配方。此控制级别使用户能够根据特定要求定制热处理条件,从而提高设备性能和产量。CENTROTHERM E2000 HT 320-4除了具有先进的过程控制功能外,还配备了一系列安全和维护功能,以确保可靠且无故障的运行。该炉设计有多个安全联锁、过温保护和紧急关机系统,以减轻风险和防止热失控事件。该单元还包括集成的诊断和报告功能,可轻松监控机器性能并排除可能出现的任何问题。为了补充E2000 HT 320-4扩散炉,提供了一系列附件和选项,以进一步提高其能力。这些包括晶圆处理系统、气体净化单元、先进的过程监控工具以及用于无缝控制和数据管理的软件集成。CENTROTHERM E2000 HT 320-4的灵活性和可扩展性使其成为从研发到大批量生产等多种热处理应用的通用解决方桉。总体而言,E2000 HT 320-4扩散炉是半导体行业及其他行业要求苛刻的热处理工艺的尖端解决方桉。凭借其高温性能、先进的工艺控制特性和坚固的设计,该炉提供了卓越的性能、可靠性和灵活性,可实现精确且可重复的热处理结果。
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