二手 CENTROTHERM Parallel plate for Silicon nitride deposition system #293669093 待售

CENTROTHERM氮化硅沉积设备的平行板是一种扩散炉和辅助系统，旨在解决各种半导体应用。该扩散炉利用由两个平行板设计的升华器提供均匀的氮化硅热处理和均匀的涂层。该单元设计为具有单个锥形设计的底部腔室，适合机器的主体。顶室由耐高温材料构成，提供容纳两个平行板的真空板。还提供了一种外部控制的惰性气体进料，有助于控制升华过程，允许精确控制硅酸氮化物分子的浓度，防止底物过度掺杂。该工具还具有获得专利的热区设计,可改善整个加热区域的温度均匀性。对称的热源创造出一个一致的温度范围，也很容易调节和控制。此外，该资产还提供了整个加热区域内极好的温度均匀性。该模型适用于氮化硅产品的开发和制造。在产品开发方面，该设备采用了一系列常规和先进的热晶圆加工方法。这包括像原子层沉积（ALD）和化学气相沉积（CVD）这样的沉积过程，以及退火、蚀刻和金属接触形成。氮化硅沉积系统的平行板与各种材料和基板高度兼容。根据具体应用，可以使用DLC、LPCVD、PECVD硅烷等不同的涂层材料。此外，该单元还与金属、玻璃、陶瓷、塑料兼容。该机器还设计了顶室内部独特的禁区，这有助于减少SiNx分子撞击墙壁并制造堵塞的机会。提供了一个易于使用的触摸屏控制器，有助于操作和监控所有工具元素。控制器还提供与外部系统的通信以及对流程参数的实时在线监控。总之，氮化硅沉积资产的CENTROTHERM平行板是一种通用、高效的半导体应用模型。由于其先进的特性和与一系列材料和底物的兼容性，该设备提供了高效和均匀的氮化硅分子扩散处理。