二手 ESPEC PHC-111M #9352229 待售

ESPECT PHC-111M是为处理大型半导体晶片而设计的扩散炉。配备高温性能（HTP）膜，是大型集成（LSI）基板加工和高温退火应用的理想工具。温度范围为100至1100 °C, PHC-111M能够在各种半导体材料中精确控制和保持温度在0.1°C的范围内。它的加热元件，一个5000瓦的高效灯丝，能够提供高低温精确的图样。为了保持恒定的温度分布，ESPIC PHC-111M配备了排气风扇，有助于在整个加热室内均匀循环热量。以45升的容量，PHC-111M可以使用量产技术处理多达8英寸的半导体晶片或基板。此外，它的陶瓷内室确保在加工过程中氧化和污染最小。该单元还设计用于容纳各种设备，包括石英和石墨船、气体片和薄膜监控设备。为了进一步提高精度和可重复性，ESPIC PHC-111M配备了嵌入式微机控制器，能够监控加热室温度、加热器输出和设置参数。控制器以演示均匀性、精确度和可靠性为重点，包括PID控制、温度测量、条形图、自我诊断、时间报警功能等功能。在安全性方面，PHC-111M还设有地震探测器、开路和短路保护装置，以及防止炉子在运行时被打开的互锁系统。该单元还使用分时系统，其中可以同时编程和执行多个程序，从而在批量生产应用中实现一致性和可靠性。最后，ESPEC PHC-111M配备了一系列配件，包括石英观测窗口、高响应热度计、热电偶、电源线、PC连接器和热电偶数据记录器。它还提供了一个外部石墨加热器模块，以提高工艺精度和灵活性。