二手 HITACHI / KOKUSAI DD-1223V #9377447 待售

HITACHI/KOKUSAI DD-1223V是一种扩散炉，设计用于各种应用的过程温度的快速和精确控制。这种先进的装置适用于制造广泛的键或处理各种抛光薄膜等薄材料沉积工艺。HITACHI DD-1223V扩散炉是为各种工艺的最佳效率和性能而设计的。这可能包括但不限于金属或陶瓷的粘合、抛光膜和薄材料沉积过程。该装置的温度范围高达1250°C，并利用感应加热设备。这个先进的系统提供高效率和低能耗，允许用户更准确地管理所需的温度。KOKUSAI DD-1223V扩散炉利用其真空溷合热区单元（VMHZS）产生均匀、精确的温度分布。这台专用机器防止了RTD所经历的氧化和其他热差异，从而提高了目标温度的准确性。该装置的温度控制环路装有PID、Beta铂金和Thermus ML6-HT三个传感器。Beta铂型传感器能够高精度地进行控制,而Thermus ML6-HT传感器可以在高达1250 °C的温度下运行。DD-1223V扩散炉设计用于高真空操作和材料的最终升华。该装置采用了强大的风扇和优化的气流工具，能够安全疏散挥发性和危险性物质。该机组进一步配备了先进的冷却资产，以加快冷却速度。HITACHI/KOKUSAI DD-1223V扩散炉是三菱电脑化控制模型（MCCS）附带的全自动装置。该设备包括可视化交互式用户指令,使设备的管理更加容易。自动化设备可用于从内存中召回多达20个程序。这些程序在有用的链式菜单显示中分配,以便于导航。HITACHI DD-1223V扩散炉还配有许多有用的配件.这包括增强性能的S-33V型氮净化系统。这个特殊的单元有助于减少过程环境中存在的氧气量。该装置还包括一台低压氮气机，有助于提高炉膛内部大气中的氮气浓度。这减少了氧化，提高了材料的质量。综上所述，KOKUSAI DD-1223V扩散炉是为各种薄材料沉积过程及其他应用快速精确控制工艺温度而设计的先进装置。该装置配有先进的真空溷合热区工具（VMHZS），加热均匀，温度控制精度优越。该设备还包括一个自动化的三菱电脑化控制资产（MCCS），用于通过预设程序和其他功能进行快速导航。