二手 HITACHI / KOKUSAI DD-802V #9269474 待售

HITACHI/KOKUSAI DD-802V是为制造半导体器件而设计的扩散炉及配件。它被用于多种行业，包括消费电子、航空航天和汽车工业。该炉由几个部件组成，包括一个腔室、一个电源、一个气体输送设备和一个冷却系统。HITACHI DD-802V中的消声器室由氧化铝或石英板制成，用于均匀的热分布。腔室装有几个温度传感器，用于监测和控制温度分布。KOKUSAI DD-802V的可用温度范围为200-900°C,精度为± 5°C。该室还配有一个原位气体输送装置，有助于保持工艺气体如CVD、PVD等的均匀流动。DD-802V由交流电源供电,使其具有交流220V-380V电压范围、50-60Hz频率和内部功率因数校正（PFC）机。PFC工具有助于保持向炉子的稳定电流流动，从而降低能耗，促进温度分布的稳定性。HITACHI/KOKUSAI DD-802V中的气体输送资产有助于在室内营造惰性气氛，促进防止氧化和薄膜的均匀沉积。该模型还有助于控制工艺气体的流量，从而实现精确的参数控制。炉中的冷却设备有助于降低沉积膜的温度，使其不会过热，防止热引起的损坏。HITACHI DD-802V能够产生低于0.1 Pa的真空水平，而无需真空泵。这种特性促进薄膜的均匀沉积，有助于保持腔室的清洁度。KOKUSAI DD-802V还配备了CIX和质量流控制器（MFC），有助于控制薄膜沉积的工艺参数。DD-802V是可靠的，强大的，能够生产各种厚度和纯度的薄膜。非常适合制造半导体器件等产品。该系统也是安全的，能够在各种温度和压力下高效工作。