二手 HITACHI / KOKUSAI DD-833V #9238012 待售
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ID: 9238012
晶圆大小: 6"
Diffusion furnace, 6"
Process: PYRO (HCL)
Process gas: N2, H2, O2, HCL
Loading system:
Front operation panel: R-Axis
Pass box (Load lock): Cassette loader
CX 3002 Main controller
CX 1220 Mecha controller
Wafer counter, 6" (every 25)
I/O Stage check: Air off
CX 3002 Cassette loader
Wafer transfer: Air Off ((5) vacuum tweezer, 6")
Furnace system:
CQ 1500 (DN-150) Temperature controller
D4EX 05414 Heater
SIC Profile
(4) Controllers
(4) Monitors
Gas system:
CX 1311 MFC Controller
MFC (STEC):
MFC1: 30SLM
MFC2: H2 20SLM
MFC3: O2 20SLM
Model / Gas:
MFC4: O2 2SLM
MFC5: HCl 1SLM
MFM: N2 10SLM
(2) Filters
Pressure control system:
AERA RC-100F Pressure controller
Valve open / Close check: APC Valve area RV-100
Burning system:
CX 1310 Burn controller
Power:
Heater: 3Φ, AC 200 V, 42 kVA
Control: 1Φ, AC 100 V, 30 A
Clean unit: 1Φ, AC 100 V, 40 A.
HITACHI/KOKUSAI DD-833V是一种先进的扩散炉及附件封装,旨在为各种材料提供精确的温度控制和均匀性。该炉采用钼六壁加热室、高功率石英管式加热元件、两级隔膜泵和高精度温度控制器。利用这些功能,HITACHI DD-833V能够在各种扩散过程中密切控制高达1,400 °C的温度。该炉可用于需要快速热扩散的应用，如金属和玻璃的薄膜沉积、CVD工艺和热处理。KOKUSAI DD 833V的钼热室设计为以最小的热损耗快速加热材料。石英管式加热元件对温度变化提供精确一致热扩散的精确响应。位于炉旁的两级隔膜泵有助于降低表面污染风险。高精度温度控制器提供精确的温度控制和均匀性，使扩散炉能够快速准确地运行。该套件还包括旨在增强DD 833V操作的附加配件。包括一个高度可调的支架，以协助在炉子中定位样品。盖子提升机构允许在热处理过程中方便地接触样品。包括一个单独的电源模块，为扩散炉提供额外的电源，如干气。此外，DD-833V还包括各种炉子控制面板、电气部件和其他附件，以实现对扩散过程的精确控制。控制面板易于使用,可提供直观的命令和一系列指示器来监控温度和扩散进度。所有必要的电气元件都包括在内,以便安全可靠地连接到电源。KOKUSAI DD-833V是一种先进可靠的扩散炉及附件包装，为各种材料提供精确的温度控制和均匀性。HITACHI DD 833V通过其卓越的加热系统,包括附件和易于使用的控制面板,使热扩散成为一个简单而复杂的过程。
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