二手 HITACHI / KOKUSAI DD-853V-8BL2 #9182447 待售
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ID: 9182447
优质的: 2000
Vertical diffusion furnace
Flat zone aligner with sensor
Wafer counter: M-826
Main controller: Dual hard disk CX-3002B
Exhaust controller: PCU- 3000
PLC Unit: OMRON (CX-1314)
(2) Hard gas pattern GFC panels
(2) Software pattern GFC panels
Heater torch:
UV Sensor
(2) Torch type
Gas unit:
P-N2-1 0.30MPa / 30L/min 1 ¼” UJR
P-N2-2 0.30MPa / 100L/min 1 ¼” UJR
O2 0.20MPa / 21L/min 1 ¼” UJR
H2 0.20MPa / 20L/min 1 ¼” UJR
HCL 0.20MPa / 20L/min 1 ¼” UJR
Air/N2 0.6MPa 1 ¼” UJR
Power:
Heater: 1Φ208V, 50KVA
Control: 1Φ208V, 9KVA
2000 vintage.
HITACHI/KOKUSAI DD-853V-8BL2是一种专门为基础研究和半导体应用而设计的扩散炉。它是一种高性能的单层炉设备，能够将温度提升至1300 °C，同时提供均匀的热处理。该系统主要用于各种材料的沉积、外延、退火、氧化和扩散，包括半导体、金属和粉末。扩散炉由三个主要部件组成：主体，装有电子和温度控制部件；循环风扇和空气淋浴装置；和底座组件。主机组由炉体、电子温度计、背侧安装的气体加热单元和冷却风扇组件组成。冷却风扇组件可以有效地从炉子中除去热量和温度变化。该炉设有电路保护真空密封，提供最佳温度控制。HITACHI DD-853V-8BL2中的循环风扇和空气淋浴机确保了均匀的热处理。该单元由一个顶级电气控制器-子控制器、一个转子式鼓风机风扇和一个三相电动机组成。循环风扇与集成的空气淋浴工具一起，有助于在室内实现均匀的温度分布。KOKUSAI DD-853V-8BL2设计方便操作。主体采用人体工程学设计，具有易于使用的控制面板，便于监控和调整加工温度。DD-853V-8BL2为实验室环境提供可靠、强大的扩散炉技术。它是专门为基础研究和半导体应用而设计的，可以在均匀热处理的情况下达到高达1300 °C的温度。该单元采用方便的控制面板，易于使用和维护。这种高性能扩散炉非常适合任何需要精确温度控制的研究实验室或半导体生产设施。
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