二手 HITACHI / KOKUSAI DJ-1206VN-DF #9377433 待售

HITACHI / KOKUSAI DJ-1206VN-DF
ID: 9377433
晶圆大小: 12"
优质的: 2012
PECVD System, 12" Process: ALD 2012 vintage.
HITACHI/KOKUSAI DJ-1206VN-DF是一种最先进的扩散炉,具有先进的特点,适用于广泛的应用。扩散炉使用先进的真空设备将薄膜层沉积在晶圆上。该技术用于高性能设备,如微处理器,以及大规模生产集成电路。HITACHI DJ-1206VN-DF提供卓越的精度,以满足高精度处理要求。这是由于其高品质的真空系统能够达到1 x 10-7 Torr的保持真空。此外,扩散炉的温度均匀性令人难以置信,±为1 °C,可达到1250 °C的温度。除了温度均匀性外,KOKUSAI DJ-1206VN DF还配备了一个保温单元,该单元经过调谐,可以高效传递内部热量,减少热不稳定性。这样可以确保在加工过程中保持一致和准确的温度曲线,从而提高优质产品的产量。KOKUSAI DJ-1206VN-DF还采用了一种集成了钼和石墨屏蔽的石墨敏感器,以提供有效的防热辐射缓冲。磁感器在导轨上升高和降低,以便更容易地引入和提取工艺基材和晶片。此外,扩散器还配备了一个旋转电动转盘,以更好地旋转晶片通过磁感器,从而获得更一致的沉积。DJ-1206VN DF还包括一个集成电源控制单元(PCU),可用于通过预定义的设定点监控和测量机器的电力吸收。这有助于提高处理结果的准确性和可重复性。最后,HITACHI DJ-1206VN DF得到了一些附件的进一步加强,为用户提供了扩散过程的综合工具。其中包括液氮源、供气资产和工艺气体监测模型。扩散炉还包括自动化过程控制等功能,以及过程映射和调谐算法,以确保最佳的处理结果。总之,DJ-1206VN-DF是一种具有先进特点和配件的特殊扩散炉。其高精度真空设备、温度均匀性、绝缘系统和集成石墨敏感器相结合,提供高效准确的单元。此外,一系列附件,包括液氮源和工艺气体监测机,进一步扩大了工具的潜力。这些特性使HITACHI/KOKUSAI DJ-1206VN DF成为任何基于扩散的过程的理想选择。
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