二手 HITACHI / KOKUSAI DJ-1206VN #9377460 待售

HITACHI/KOKUSAI DJ-1206VN是一种扩散炉及附件，专为半导体晶片的快速热处理而设计。它是热氧化、扩散、氮化和其他要求亚微米精度和可重复性的苛刻应用等过程的理想工具。该炉具有完整的软件控制操作，允许晶片的高效和保形加热。该炉设计用于需要一致扩散和其他热过程的制造生产线。它具有垂直轮廓配置，可以容纳一批四个（200mm/8"）晶片。该炉还可以容纳三个75毫米（3英寸）晶圆和一个100毫米（4英寸）晶圆，使得它既适合大小晶圆加工。该炉设有独特的扩散装置，由两个热电控制器和一个可编程的温度调节设备组成。这样可以实现严格控制的加热和冷却循环,提供可重复的结果。HITACHI DJ-1206VN的温度范围为300 °C ~ 1300 °C。KOKUSAI DJ1206VN还具有先进的安全系统，为用户提供操作人员的安全和免受危险条件的环境保护。这些保护装置内置在设备的设计中,当晶片在900°C以上的温度下保持超过5分钟时,包括锁定操作机器。该炉还提供8种可编程氧化/氮化/扩散/退火工艺，为用户提供执行最具挑战性的热工艺的灵活性。它还为每个进程提供4个可编程的时间步骤。精密的控制工具始终保持对工艺温度的严密控制，防止热失控和温度过高。此外,DJ-1206VN还配备了计时器和数据通信功能,为用户提供了监视和记录每个过程的温度和时间的能力,从而可以轻松评估结果。综上所述，KOKUSAI DJ-1206VN是一种扩散炉及其附件，专为半导体晶片的快速热处理而设计。它非常适合热氧化、扩散、氮化等要求亚微米精度和可重复性的苛刻应用。HITACHI DJ1206VN具有垂直配置、两个热电控制器、可编程温度调节资产、高级安全模型、8种可编程过程、4个可编程时间步长、计时器和数据通信功能,使用户能够有效、精确地对晶片进行热处理。