二手 HITACHI / KOKUSAI Quixace DJ-1236VN-DF #293711268 待售
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ID: 293711268
晶圆大小: 12"
优质的: 2016
Vertical LPCVD Furnace, 12"
Heating element
(2) Port loaders
Power rack
Spare parts
Cables
2016 vintage.
引言：HITACHI/KOKUSAI Quixace DJ-1236VN-DF是一种先进的扩散炉，设计用于半导体晶片的精确和均匀热处理。这款先进的设备配备了一系列创新功能和配件，使其非常适合在半导体行业中需要卓越性能和可靠性的大批量生产环境。主要特点：HITACHI Quixace DJ-1236VN-DF扩散炉是一种具有顶载配置的垂直炉系统，可方便地进入晶圆装卸的加工室。该机组配备了一个大容量的船装载机，可容纳多个晶圆载波，最大限度地提高吞吐量和效率。炉膛由高纯度石英材料构成，保证了优良的隔热和耐化学反应，从而最大限度地减少了污染，确保了高纯度的加工。该机具有坚固的气体输送工具和精确的质量流量控制器，可精确控制过程中的气体流量，从而能够精确控制过程条件。KOKUSAI Quixace DJ-1236VN-DF扩散炉配备了高性能的加热设备，能够使温度快速上升和下降，确保晶圆的快速和高效处理。该模型采用多区加热配置，对每个加热区进行独立的温度控制，从而实现晶圆表面的精确温度均匀性。工艺控制和监测：Quixace DJ-1236VN-DF扩散炉配备了精密的工艺控制设备,可精确控制工艺参数,包括温度、气体流量和坡道速率。该系统具有直观的用户界面，可以方便地编程流程配方和实时监控流程参数。该装置配备了先进的温度控制算法和反馈机制，确保整个晶圆表面的精确温度控制和均匀性。该机还配备了综合安全联锁工具，确保炉子的安全运行，并保护资产免受潜在危害。附件和选项：HITACHI/KOKUSAI Quixace DJ-1236VN-DF扩散炉提供一系列附件和选件,以增强其能力并根据特定工艺要求进行定制。可选功能包括用于自动晶片处理的负载锁定室、用于工艺室疏散的真空泵模型以及用于在处理过程中监视晶片位置和温度的晶片映射设备。该系统可配置各种工艺气体输送选项，包括掺杂气源和载气控制模块，以实现广泛的扩散过程。该单元还可以配备先进的晶圆跟踪机，使晶圆在整个处理周期中都具有可追踪性。结论：HITACHI Quixace DJ-1236VN-DF扩散炉是一种在半导体晶片加工过程中提供精度、可靠性和效率的高性能工具。凭借其先进的功能、直观的用户界面和各种附件,此资产非常适合在半导体行业的热处理应用中需要卓越性能和控制的大批量生产环境。
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