二手 HITACHI KOKUSAI Quixace LV #9293900 待售

HITACHI KOKUSAI Quixace LV扩散炉及配件设计用于半导体等器件的高质量加工。该设备配备了先进的高温技术，确保了整个晶片上可重复的温度均匀性。它利用两层整体炉来保护基板免受外部温度波动的影响，并控制热梯度。炉的最高温度为1400°C，温度分布优于± 7°C。它还具有先进的热预报功能，以提高准确性和减少过程时间。Quixace LV系统采用单一的铝化石墨绝缘单元，有助于在较高的温度下保持较高的温度均匀性。它还提供了坚固的绝缘，以防止热量流失，这有助于节省过程中的能量。这台机器完全自动化，并与AmpleX™配方开发和执行平台相集成，以实现最佳的效率。HITACHI KOKUSAI Quixace LV还具有高级循环控制功能。这允许以最小的偏移精确控制温度和时间相关的扩散过程。该炉由多种配件进一步支撑，包括无石英风箱、无石英升降机和三角洲电阻加热工具。这些配件进一步提升了资产的性能，提供了卓越的业绩。Quixace LV模型最多可用于八个炉子，并包括各种先进的安全特性。它配备了更高容量的排气装置、紧急关闭阀、低级互锁设备和过温防护功能。此外，它还配备了一个粒子陷阱加热器、一个气体预处理单元和一个陶瓷晶圆工艺模块，可协同工作以实现高效运行。HITACHI KOKUSAI Quixace LV可与各种基材搭配使用，包括硅、硅基化合物、硅氧化物等材料。该系统非常适合半导体制造,因为它在一个可靠的平台中提供卓越的性能、增强的安全功能和先进的工艺技术。