二手 KOKUSAI CX-3000 #293762971 待售
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ID: 293762971
晶圆大小: 12"
优质的: 2007
Diffusion furnace, 12"
P/N: DD-1223VN
Process: SI3N4
Main controller: CX3010 / CX3010B
Power supply: 208V, 1 Phase / 440 V, 3 Phase
2007 vintage.
KOKUSAI CX-3000是一种最先进的扩散炉,设计用于半导体制造和研究机构中半导体晶片的精确和均匀处理。这款高性能炉配备了先进的特性和能力,以满足业界苛刻的要求。KOKUSAI CX3000的核心是它的扩散管,它由高纯度石英制成,以保证优异的热稳定性和均匀的加热特性。该管设计为同时容纳多个晶片,允许晶片的批量处理以提高吞吐量和效率。扩散管还配备了专门的气体分配系统,以精确控制掺杂气体和其他加工气体的流动,确保准确和可重复的加工结果。CX-3000提供了广泛的工作温度,从退火和氧化的低温过程到扩散和退火的高温过程。设备配有多个加热区和精确的温度控制机制,为每个工艺步骤创造理想的热轮廓。这样可以确保整个晶片表面的均匀性,并消除可能影响设备性能和屈服的温度变化。为了进一步提高系统的性能和可靠性,CX3000配备了自动过程控制系统,可实时监测和调整关键参数。这包括气体流速、温度剖面、压力水平和其他关键过程变量,以确保最佳处理条件和一致的结果。KOKUSAI CX-3000还提供了一系列高级工艺配方和定制选项,以适应各种半导体工艺和材料。用户可以轻松地为不同的应用程序编程和存储自定义配方,从而实现快速、无缝的过程开发和优化。KOKUSAI CX3000除了具有先进的处理能力外,还具有易于使用和维护的特点。该单元具有用户友好界面,具有直观的控件和数据记录功能,使操作员能够实时监控流程参数和性能指标。该炉还配备了诊断工具和远程监控能力,以方便故障排除和维护活动。可通过一系列附件和升级来进一步提高CX-3000,以满足特定的用户要求。这包括附加气体管线、晶圆处理系统和高级工艺监控工具的选项。机器还可以与半导体制造生产线中的其他工具和设备集成在一起,创造一个完全自动化和无缝的生产环境。总体而言,CX3000为半导体处理应用提供了功能强大且用途广泛的解决方桉,结合了先进的技术、精确的控制和易用性,从而实现了高性能和可靠的晶圆处理。无论是用于研发还是大批量生产,这种扩散炉都提供了满足半导体行业不断变化的需求所需的能力和灵活性。
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