二手 KOKUSAI CX-5000 #293762571 待售

KOKUSAI CX-5000
製造商
KOKUSAI
模型
CX-5000
ID: 293762571
晶圆大小: 12"
优质的: 2010
Diffusion furnace, 12" P/N: DJ-1206VN-DF Process: TiN Main controller: KDSC Power supply: 120 V, 1 Phase / 480 V, 3 Phase 2010 vintage.
KOKUSAI CX-5000是一种用于半导体器件制造扩散过程的扩散炉及其配件。它采用高温设计,为包括硼、磷和砷掺杂在内的各种扩散过程提供出色的性能。它适用于四英寸、六英寸和八英寸的晶圆尺寸,采用250毫米石英加工管设计,温度均匀。这种扩散设备配有尼康显微镜,用于观察晶片在熔炉中的情况,以便快速目视检查。CX-5000有三个单独的工艺区:预热区、扩散区和冷却区。预热区设计有强加热器,在晶片进入扩散区之前均匀加热,独立于扩散区,使其在低于扩散区的温度下运行。这种设计可确保晶片在预热区内的整个温度均匀,并防止热梯度在进入扩散区后形成。扩散区具有高温设计,具有稳定的温度,用于整个系统的精确扩散过程。高温设计在800至1150摄氏度的温度下运行,允许硼、磷、砷掺杂剂扩散加工。扩散区还包括自动抽样室刮水器,用于高效清洗。KOKUSAI CX-5000扩散炉还配备了内置供气罐、真空泵和气体监控器,以提高过程控制和安全性。CX-5000扩散炉冷却区提供了高效、快速的冷却过程。它配备了两级冷却装置,以每分钟50摄氏度的最大冷却速率运行。冷却区可防止晶圆在冷却过程中破裂,并提高机器性能。KOKUSAI CX-5000扩散器还包括许多增加准确性和性能的附加功能,例如一个连续监控每个样品温度的E-scope、一个带有警报输出的最大功率监视器以及一个风扇式冷却工具,以减少设备在扩展扩散过程中的加热。CX-5000是高温扩散过程的理想选择,因为它具有高温度和优异的性能。该扩散炉具有先进的特点和性能,是各种硅器件制造工艺的理想选择。
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