二手 KOKUSAI CX-5000 #293763006 待售

KOKUSAI CX-5000
製造商
KOKUSAI
模型
CX-5000
ID: 293763006
晶圆大小: 12"
优质的: 2010
Diffusion furnace, 12" Part number: DJ-1206VN -DF Process: TiN Main controller: KDSC Power supply: 120 V, 1 Phase / 480 V, 3 Phase 2010 vintage.
KOKUSAI CX-5000是由KOKUSAI Semiconductor Equipment Corporation开发的最先进的扩散炉及其相关配件。这一创新平台为半导体制造所需的精确高效的扩散过程提供了先进的能力。CX-5000通过提供高水平的性能、可靠性和灵活性来满足半导体行业的苛刻需求。KOKUSAI CX-5000设备的核心是扩散炉本身,它是硅片热处理的关键部件。该炉设计为提供精确的温度控制、均匀的热分布和受控的气流,以达到最佳的扩散效果。炉膛采用优质材料制成,能承受高温和腐蚀性气体,保证长期耐久性和可靠性。CX-5000炉具有先进的加热元件,能够快速加热和冷却循环,从而能够高效加工晶片。该系统配有多个加热区,可以独立控制,以针对不同的工艺需求创建定制的热剖面。这种控制水平使得扩散过程参数的精确调谐能够在半导体器件中实现所需的掺杂轮廓和结深。炉膛的设计可以容纳各种晶圆尺寸,从研发中使用的小直径晶圆到生产环境中常用的较大晶圆不等。这种灵活性使半导体制造商能够在同一平台上处理不同类型的晶圆,减少了对多种加工工具的需求,简化了生产流程。除了炉膛外,KOKUSAI CX-5000单元还包括一系列附件和外围设备,以增强其能力和功能。这些附件可能包括气体输送系统、真空泵、晶圆处理机器人和过程监测工具。气体输送机确保将掺杂气体精确、受控地输送到炉膛,而真空泵则保持扩散过程所需的真空水平。晶片处理机器人将晶片的装卸自动化到炉膛,降低了污染风险,提高了整体工艺效率。机器人配备了先进的传感器和控制系统,以确保晶片在加工过程中的精确定位和对准。过程监测工具,如温度传感器、气体流量计和压力表,提供过程参数的实时数据,使扩散过程能够持续监测和调整。这种数据驱动的方法确保了一致和可重复的结果,从而提高了产品产量并改进了质量控制。总体而言,CX-5000扩散炉及其相关配件为半导体制造商提供了一个可靠和高性能的解决方桉,以满足其热处理需求。该工具的高级功能、精确的控制功能和灵活性使其成为在半导体制造过程中实现最佳扩散结果的宝贵工具。借助KOKUSAI CX-5000,半导体制造商可以期待提高工艺效率、降低运营成本和提高产品质量,最终在快速发展的半导体行业中获得竞争优势。
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