二手 KOKUSAI CX-5000 #293763015 待售
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ID: 293763015
晶圆大小: 12"
优质的: 2010
Diffusion furnace, 12"
Part number: DJ-1206VN -DF
Process: SI3N4
Main controller: KDSC
Power supply: 120 V, Single phase / 480 V, 3 Phase
2010 vintage.
KOKUSAI CX-5000是一种最先进的扩散炉,设计用于将掺杂剂精确、均匀、高效地扩散到半导体制造的硅基板中。这种先进的炉子配备了一系列特点和配件,便于高温热处理,具有出色的控制和可靠性。CX-5000的核心是一个高性能的石英管炉,它为掺杂物扩散过程提供了一个稳定且均匀的热环境。该炉能够达到高达1200 °C的温度,从而能够精确控制硅基板中的掺杂活化和扩散剖面。石英管的设计是为了抵御热冲击和化学攻击,确保长期的性能和可靠性。KOKUSAI CX-5000配备了精密的温度控制设备,可让用户对炉温进行高精度编程和监控。整个炉管的温度均匀性保持在严格的公差范围内,确保了一致和可重复的扩散结果。该炉还具有快速加热和冷却能力,能够在半导体制造过程中实现快速循环和高通量。为加强扩散过程,CX-5000配备了一系列气体输送和溷合系统,可精确控制掺杂气体和载气。该系统能够处理多种掺杂物种,包括磷、硼、砷,纯度和稳定性都很高。气体流速和溷合比可以很容易地调整,以优化特定半导体器件应用的掺杂条件。除了核心炉单元外,KOKUSAI CX-5000还配有一套全面的配件和选件,进一步提升其性能和多功能性。这些附件包括用于自动晶片装卸的负载锁定机、用于精确压力控制的真空泵工具,以及用于扩散过程实时分析的一系列过程监控工具。CX-5000的关键优势之一是其先进的过程控制和自动化能力。该炉与行业标准的工艺控制软件兼容,允许无缝集成到半导体制造工作流程中。可以根据应用程序的特定要求轻松地将资产配置为批处理或单晶圆处理。总体而言,KOKUSAI CX-5000是半导体制造中掺杂剂扩散的前沿解决方桉,提供卓越的性能、可靠性和多功能性。凭借其先进的特性和配件,这种扩散炉为半导体制造商提供了他们所需的工具,以实现各种半导体器件的精确和均匀的掺杂轮廓。
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