二手 KOKUSAI CX-5000 #293763030 待售
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ID: 293763030
晶圆大小: 12"
优质的: 2015
Diffusion furnace, 12"
Part number: DJ-1236VN -DF
Process: ALD
Power supply: 120 V, Single phase / 480 V, 3 Phase
2015 vintage.
KOKUSAI CX-5000是为半导体制造应用中的超高温加工而设计的最先进的扩散炉设备。这种先进的熔炉提供了对温度和大气的精确控制,以确保掺杂剂向硅片基板的最佳扩散。除了主要的扩散炉单元外,CX-5000还辅以一系列附件和外围设备,以增强其功能和性能。KOKUSAI CX-5000主炉室由高纯度石英管构成,具有坚固的加热元件系统,提供均匀稳定的温度控制。该装置配备了先进的气体输送和溷合系统,以创造扩散过程所需的精确工艺大气。扩散炉可达到高达1200摄氏度的温度,使其适用于包括砷、磷、硼掺杂在内的广泛扩散过程。CX-5000的一个关键特点是其先进的温度控制机,它利用多个热电偶和一个复杂的PID控制算法来维持整个晶圆表面的高度精确的温度剖面。这种温度均匀性确保了一致和可靠的扩散结果,对于实现半导体制造过程的严格控制至关重要。为增强KOKUSAI CX-5000的功能,提供了一系列附件和外围设备,包括快速热退火(RTA)模块、真空传递室和晶圆处理工具。RTA模块允许快速加热和冷却晶片以进行退火过程,而真空传输室则允许晶片在工艺模块之间无缝传输,以尽量减少污染并减少停机时间。CX-5000晶圆处理资产设计用于高吞吐量制造,单晶圆或多晶圆加工选项,以满足半导体生产设施的需求。该模型结合了智能晶圆映射和跟踪功能,以确保在处理过程中准确定位和对齐,进一步提高过程的可重复性和产量。除了硬件组件外,KOKUSAI CX-5000还得到了提供直观流程编程和控制接口的综合软件包的支持。该软件允许用户创建和编辑流程配方,监控实时流程参数,并生成详细的流程分析和优化报告。总体而言,CX-5000扩散炉设备提供了先进技术、精密控制和通用配件的组合,使其成为半导体扩散过程的可靠和高效的解决方桉。KOKUSAI CX-5000具有高温、温度均匀性和全面的自动化功能,非常适合需要卓越工艺性能和产量的大容量半导体制造环境。
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