二手 KOKUSAI DD-1223VN #9179435 待售

KOKUSAI DD-1223VN
ID: 9179435
Vertical LPCVD furnaces, 12".
KOKUSAI DD-1223VN是一种扩散炉及附件封装,用于薄膜沉积、外延、氧化和扩散等半导体加工应用。该炉由系统控制器、扩散加热器、涡轮泵单元和石英室组成,重点是精确的温度控制和准确的气流。系统控制器为3英寸TFT液晶,带有触摸面板界面,允许用户输入温度参数,设置PID环路进行精确温度控制,查看操作参数等等。扩散加热器是一种高品质、高效的加热器,可达到1500摄氏度的温度,温度分布均匀,与1-四甲基硅烷、硅烷等气体兼容。涡轮泵机采用无油旋转泵,可达到0.2Torr的底压。这样可以确保可靠的性能和原始的真空条件。石英室由熔融二氧化硅材料构成,可承受高温和腐蚀性材料。腔室内部容积为25升,直径为12英寸,高度为8英寸,并设有压力释放阀,在加工过程中保持必要的压力条件。DD-1223VN提供了一系列功能,使其成为任何半导体处理应用的理想选择。具有精确的温度控制和可靠的气流,是沉积、外延、氧化、扩散的绝佳选择。此外,该室的设计确保材料不会污染内部,这使得KOKUSAI DD-1223VN理想的所有工艺。
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