二手 KOKUSAI DD-823V #293729520 待售
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ID: 293729520
晶圆大小: 8"
优质的: 1995
Furnace, 8"
Paint color: Ivory
LC-750 O2 Analyzer
Cassette: Normal I/O
System main controller CX2003A
Mechanical controller CX1215-1, 1215-2
Sequence controller CX1309A
Gas controller CX2003A
Furnace temperature controller CQ1500A
Furnace overtemp detector DN-130lz3
RIKEN KEIKI GD-D8V
Detecting Gas H2
Host communication
Host computer I/F HSMS
Gas system:
Process gas: N2, H2
FUJIKIN Manual valve
FUJIKIN Air-Operated valve
MILLIPORE Filter
Yataka regulator
MFC STEC / SEC-7330, 7350, 7340
TEMTECH / TPTMV-WD420 PT Sensor
DPM TEMTECH / NPS42000P
Cassette handling:
(21) Cassette storage
(25) Wafer cassette
Fork type: 1+4 VAC
Fork wafer presence sensor
Fork variable pitch
Install option:
Gas flow chart panel
Operation panel
1995 vintage.
KOKUSAI DD-823V扩散炉是一种高性能的单区炉，专门为半导体器件的可靠高效热处理而设计。该炉具有独立的腔室环境监测系统和用户友好的程序操作，确保一致和可重复的结果。它的设计最高可达1,400 °C,并包含一系列功能,使用户能够以所需的精度和控制进行可靠的扩散处理。炉膛由一个炉膛组成，由高温空气加热器加热，并隔热，以提高能效和安全性。它还包含一个高温机械泵和低噪声风扇，用于冷却腔室和驱动氧化过程。比例温度控制器允许通过PID闭环系统对温度进行精确操纵，并以高度的稳定性和精确度实现快速的热和冷却时间。工艺室内的大气由气流控制系统维护和监测，该系统由用于控制气流的质量流控制器和用于排出炉室的真空单元组成。包括水冷涡轮分子泵以确保腔室内的压力保持在可接受的范围内。所有这些特殊的特性确保了均匀的薄膜沉积，即使在工艺室的出口一侧也是如此。各种配件也附带了DD-823V，形成了一个整体价值主张。其中一些主要附件包括一个可旋转淋浴头单元，该单元通过应用反应物气体淋浴帮助在晶圆水平上形成均匀层，以及一个连杆板，它能够在不损害加工室环境的情况下自动装卸产品。除了这些，还包括一个石英顶载荷单元，用于修改大气。最后，还包括一个活性碳过滤器，可有效消除室内大气中的有机杂质。总体而言，KOKUSAI DD-823V扩散炉是一种可靠、高效的扩散处理解决方桉，它包含一系列专门的特性和先进的附件，用于在晶圆水平上形成均匀的层。它确保半导体器件在高达1,400 °C的温度下安全、高效和可重复的热处理,并提供对该工艺的高度精确度和控制。其中包括一系列有用的配件，以进一步提高炉子的效率，帮助炉子提供价值主张。
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