二手 KOKUSAI Quixace II ALD Nitride #9397062 待售

KOKUSAI Quixace II ALD氮化物是一种扩散炉，设计用于处理各种薄膜沉积和离子植入过程。它是一种单室扩散炉，旨在为多层薄膜的沉积和最复杂的掺杂型材提供优越的工艺控制。该设备能够同时处理多达38个晶片，消除等待时间，最大限度地提高生产吞吐量。Quixace II ALD氮化物扩散炉提供多种工艺选择。它使PECVD和ALD系统结合使用,使用户能够以更高的均匀性和更高的可重复性存放所需的材料。加压系统可以提供更高的沉积速率，使生产吞吐量进一步提高。工艺选项还包括高温退火和射频离子植入，允许用户创建最复杂的掺杂型材。KOKUSAI Quixace II ALD Nitride扩散炉具有自动化的过程控制,可实现精确和可重复的结果。该单元适合于自主操作，允许用户即时修改和监控各种工艺参数。它还有一个内置的冷却机器，它允许刀具连续处理高温过程而不会对晶片造成任何损害。Quixace II ALD Nitride的灵活性使得可以在全自动真空处理线路中添加可选的加载资产并与其他系统集成。这使用户能够完全控制基板的生产吞吐量。KOKUSAI还可以提供额外的配件，如用于晶圆处理的机器人臂，以及用于全自动模型的冷冻泵和机械真空泵。总体而言，KOKUSAI Quixace II ALD氮化物扩散炉是制造复杂薄膜和掺杂剂型材的高度先进的设备。其自动化的工艺控制、种类繁多的工艺选择以及高效处理大批量生产晶片的能力，使其成为薄膜和离子植入应用的理想选择。