二手 KOKUSAI Quixace II ALD Oxide #293600574 待售

KOKUSAI Quixace II ALD Oxide是一种先进的扩散炉及配件设备，用于材料的快速热处理，用于半导体工业。该系统以单晶片氧化铝（Al2O3）反应器为基础，实现晶片材料的低温氧化退火。它配备了一个自动大气控制模块和一个高温预蒸发室，对整个操作提供了高度可靠的现场过程控制。先进的Quixace II ALD氧化物扩散炉具有精确的温度控制单元，能够在宽广的温度范围内实现准确稳定的热处理操作。温度可以以高精度设定，给予高度可重现的热过程。该机设计可处理多达100毫米或200毫米晶圆，非常适合大容量应用。KOKUSAI Quixace II ALD Oxide还具有低流量、低泄漏真空工具，允许比传统扩散炉更高的生产率。资产配备了一系列传感器、能源和基板持有者，为各种应用提供了灵活性。此外，该型号还配备了一个先进的层扫描仪，用于监控被加工层的厚度和结晶结构。Quixace II ALD Oxide还包括真空歧管，允许更低的功耗和改进的工艺重复性。该设备还具有许多安全功能，如温度传感器、联锁装置和紧急关闭装置。KOKUSAI Quixace II ALD Oxide是一个强大高效的材料热处理平台,可提供高水平的过程重复性、可靠性和安全性。系统的高级功能使用户能够实现高流程吞吐量和优化,从而提高产量。