二手 KOKUSAI Quixace II Anneal #293822421 待售

KOKUSAI Quixace II Anneal是一种用于生产半导体器件的扩散炉及配件设备。它是一个创新的热处理系统，旨在满足最高的工艺性能要求。该装置利用先进技术，即使在最具挑战性的过程中也能提供出色的退火效果。该机设有真空沉淀室和退火室.真空沉积室的真空水平可达5 x 10-7 torr，用于金属化层的沉积。该工具的退火室用于金属化层和器件结构的再结晶。它配有红外灯，能够在受控大气中高温退火。Quixace II Anneal专为最大限度地减少铝和铝锂系统中的热扩散而设计。它具有带反馈回路的控制资产,能够随着工艺时间的推移进行精确的温度剖面控制.该模型还允许回收活性气体和惰性气体，这有助于减少废物。退火室还配备了计算机化的工艺控制设备，使操作员能够监控工艺参数，并将退火温度保持在微调、可重复的范围内。监测仪器适当地分配和平衡热流和气流，实现准确、可重复的热过程，并具有一致的工艺结果和优异的产品可靠性。凭借其创新技术，KOKUSAI Quixace II退火系统是半导体器件生产中一个强大的工具。它使生产者能够在高温下快速退火金属化层和装置结构，并得到一致的工艺结果。单位还帮助生产者减少能源消耗，消除环境危害，减少浪费。它是任何半导体器件生产环境中理想的退火机选择。