二手 KOKUSAI Quixace II CURE #9351283 待售

KOKUSAI Quixace II CURE是一种最先进的扩散炉和附件套件，非常适合在半导体器件制造和纳米技术研发中的应用。为方便工件的装卸，设计用于批量板装填和编制索引。Quixace II CURE具有多种高性能特性,能够在整个腔室实现极其精确的温度均匀性,从而实现热氧化和二氧化硅沉积等最佳的精密处理。KOKUSAI Quixace II CURE设计了模块化的工作室，可以接受多种尺寸的盒式磁带，以提高生产吞吐量。内室由模块化石墨加热器构成，以确保室内的加热均匀。温带通过数字读出进行监控,允许自动操作和连接控制器的复杂设置控制。该设备还配备了车载排气装置，既可管理后压，又可管理工艺大气积聚。此外,还集成了全面的安全功能,包括压力监控、温度过高保护和警报联锁,以便快速关闭系统。Quixace II CURE采用单面Ashing Chamber作为附件选件，配有硅钛涂层石英板，便于清洗和清除残留物。Ashing Chamber是加压的，以保护腔室和工件不受Ashing过程的影响，并设计成最大限度的均匀性和防止扭曲。它是一个高效的气体安普尔加载单元，其组件设计为尽量减少接触点和减少手动移动的子系统组件。KOKUSAI Quixace II CURE是需要精密加工和均匀加热的理想选择。这对于为纳米技术研发以及半导体器件制造创造复杂的结构非常有益。它是一种极其精确的机器，其温度均匀性和安全特性使其成为任何需要精确热处理的应用的最佳选择。