二手 KOKUSAI Quixace II Poly #293666958 待售

KOKUSAI Quixace II Poly是为高精度半导体器件制造而设计的高性能两级扩散炉。它是生产用于消费电子、汽车和计算应用的现代先进CMOS和3D IC设备的理想解决方桉。Quixace II Poly设备能够提供1150°C的最高温度，有助于其提供快速热化、热退火和激光金属化处理的非凡能力。炉子配有先进的加热系统，由两对电加热元件组成，能够在整个炉膛内产生非常均匀的温度，并消除热点和冷点。加热元件由集成的石英quenchlined热屏蔽层保护，设计成以1.5°C/min的速率均匀加热腔室。KOKUSAI Quixace II Poly由不锈钢打造而成，以提高耐用性和耐腐蚀性，并有双级设计。该燃烧室具有几个独特的特点，如烟囱、高性能穿孔墙和一个综合大气屏障，禁止炉膛大气与燃烧室内容物直接接触。烟囱被设计成产生一个轻轻向下的压力，以提高炉膛内的热和真空性能。穿孔壁的设计旨在确保整个腔室的温度均匀性,并将温度梯度降至0.4 °C/min。这些特点，加上炉子坚固的结构，保证了各类应用的最佳性能。Quixace II Poly提供多种扩散选项，包括低温掺杂和高温氧化。它配备了一个集成的3D盒式到盒式晶圆传输单元，用于改进装卸操作。该机还包括一个触摸屏面板显示屏，并在每个周期提供对所有流程和参数的完整监控。此外,该设备还可以接受射频系统。这使得在同一个炉子内可以同时进行多次扩散作业，从而大大提高了工艺自动化和产量提高。KOKUSAI Quixace II Poly是一款功能强大且用途广泛的扩散工具,在广泛的扩散过程中提供可靠的性能。它具有出色的构建质量和可靠的可靠性,是中高批量生产环境的理想选择。