二手 KOKUSAI Quixace II #9219515 待售

KOKUSAI Quixace II
ID: 9219515
Vertical LPCVD furnaces.
KOKUSAI Quixace II是一种扩散炉及配件,旨在为半导体工业提供高精度的热处理和晶圆製造服务。KOKUSAI QUIXACE-II提供卓越的热均匀性和可重复性,同时管理热负载,对产品质量的影响最小。先进的设备配备了一个独立、高速、多区的烤箱,可以随时容纳8到16个晶圆。采用双轴自动校准的感光器,以确保每个烤箱区域内的加热均匀且可重复。此外,系统还具有先进的温度控制、监控和记录功能。Quixace II提供了氮化物扩散和多晶硅沉积等高级应用所需的组合功能。QUIXACE-II具有卓越的温度均匀性(± 2°C)和可重复性(± 1°C),为先进材料提供了可靠的加工。这是通过烤箱获得专利的高晶片负载设计实现的,该设计可确保均匀扩散至1微米厚的层,其强大的控制器具有实时热反馈和闭环调节功能,以实现精确和可重复的结果。KOKUSAI Quixace II还提供了无与伦比的流程灵活性。烤箱可用于单层、多层或双层扩散处理。此外,可以将设备配置为支持各种放热、吸热和隔离过程,从而使用户能够自定义其过程以满足其需求。KOKUSAI QUIXACE-II还配备了手动原位原子力显微镜(AFM)功能,使用户能够对晶圆表面进行高分辨率测量。这有助于优化热处理,并有助于动态过程控制以获得最佳结果。此外,该机器还提供对详细流程数据的访问,使用户可以更好地评估其组件及其最终产品的质量。Quixace II是实现各种半导体元件的高精度和经济高效热处理的理想工具。通过利用其先进的温度控制、监控和记录功能,用户可以实现更高的过程可靠性和无与伦比的质量保证。
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