二手 KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiN #293666963 待售

KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiN是一种扩散炉及相关配件，旨在方便掺杂SiN薄膜，用于先进的显示和成像结构。该设备具有耐高温和均匀性的氮化硅膜层，可用于多个掺杂扩散过程。它还具有500瓦的热源，以确保膜层的最佳加热。这种扩散炉和附件是为快速、高精度地扩散接触层而建造的。该系统的先进设计有助于减少杂质扩散，这对于保持SiN层的电性能至关重要。该装置还提供精确的温度控制和快速的加热和冷却循环。Quixace Ultimate ALD SiN机设计用于半导体、显示屏和成像仪应用，这些应用要求均匀的薄膜层，具有极好的耐磨性和污染能力。此工具提供三种不同的温度剖面,以确保掺杂过程的准确性。这些是：正向偏差、反向偏差和斜坡温度。正向偏置剖面允许在最高温度过程中最快的温度上升，而反向偏置则为精确控制用于掺杂剂的试剂层提供了更大的控制。斜坡温度的特点允许逐渐升高温度以避免基板损坏。KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiN还提供多种配件，旨在提高兴奋剂处理的准确性，确保处理成功。其中包括用于精确控制热梯度和提高均匀性的压力监测仪和微加热器，以及用于对掺杂剂轮廓进行定量分析和诊断的ALD诊断工具。最后,Quixace Ultimate ALD SiN资产是为低拥有成本和易于操作而设计的。多腔室设计允许在单个或双腔室中处理多个晶片,而无需使用额外的硬件。易于使用的界面为用户提供了直观的界面和过程控制。KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiN模型是在各种半导体、显示器和成像应用中对SiN薄膜进行掺杂处理的方便且经济实惠的替代品。