二手 KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiO2 #9203703 待售

KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiO2是一种高度先进的扩散炉，旨在满足现代设备制造的严格要求。它提供卓越的温度性能，优越的均匀性和优越的腔室几何形状，都在同类的最小腔室。Ultimate ALD SiO2提供极好的热均匀性，温度精度为0.01 °C。凭借其专门的工艺控制设备，可以处理由CVD、ALD、高级氧化等组成的一系列操作。其独特的腔室几何形状也使得在大面积上实现出色的薄膜均匀性成为可能。其革命性的旋转阴极允许均匀分布电极，允许快速一致的薄膜沉积。自动清洗系统和接地装置进一步提高了可靠性。Quixace Ultimate ALD SiO2是满足现代制造工艺最严格要求的理想选择。该设备具有许多先进的功能，如自动控制单元、旋转阴极、卓越的均匀性和出色的热控制。它设计独特，提供高一致性和低热梯度。此外，腔室几何设计提供了一个极好的均匀性膜跨越大面积。此外,Ultimate ALD SiO2还配备了有效的就地清洁机器和接地设备。KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiO2是先进设备制造工艺的理想工具。提供卓越的温度控制和均匀性，最适合CVD和ALD工艺。其独特的腔室几何形状也使得在大面积上实现出色的薄膜均匀性成为可能。旋转阴极允许均匀分布的电极和清洁就地工具确保最大卫生。这种先进的资产确保了设备制造过程的可靠性和无故障。