二手 KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiO2 #9208965 待售

KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiO2是一种先进的扩散炉,配有专门为二氧化硅（SiO2）薄膜的原子层沉积（ALD）设计的配件。该设备为在一系列基板上沉积高质量的介电薄膜提供了可靠和可重复的工艺。扩散炉包括一个温度设定范围的高温室和一个甚至蒸发材料的旋转臂，以及一个内置气体输送系统，可以精确控制流量和压力。附件套件提供了SiO2高效ALD所需的所有组件，如氧化铝反应室、晶片支架、石英熔饼和温度传感器。此外,Ultimate ALD SiO2单元包括详细的工艺参数和配方,并支持手动操作,从而可以完全控制ALD工艺。这种石英镉使用户能够以极好的均匀性沉积薄膜，提供从晶圆到晶圆的一致结果。晶圆架和结构化篮子在蒸发过程中提供均匀的输送，确保材料在基板的整个表面均匀沉积。氧化铝反应室确保在ALD工艺中自动接触所需的气体溷合物，从而形成高质量的硅基薄膜。压力、温度、气体溷合物都可以通过机器的灵敏控制进行调节，从而可以优化薄膜性能和吞吐量。Quixace Ultimate ALD SiO2工具满足实验室和生产规模应用的需求。即使在最具挑战性的工业应用中,Ultimate ALD SiO2资产也可提供高可重复性、出色的过程控制以及对沉积过程的全面控制。结合其综合安全特性，Ultimate ALD SiO2模型是寻求高效、经济高效的介电薄膜沉积方法的理想选择。