二手 KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiO2 #9372767 待售

KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiO2是一种先进的原子层沉积（ALD）炉，设计用于沉积二氧化硅（SiO2）的紫外线膜，广泛应用。它非常适合那些需要高质量薄膜、高生产率和卓越均匀性的客户。该设备是半导体、MEMS、光伏、微流体和显示设备的理想选择。Quixace Ultimate ALD SiO2配备了最先进的多区腔室设计，允许整个沉积区域精确、均匀的温度控制。这样可以确保整个基板上的薄膜厚度高度一致，即使使用的材料的反应性差异很大。该系统还具有专用的入口和出口位置，可控制净化时间和腔室压力。这些特性使该装置能够处理回收时间快、甲烷沉积少的氢和氯基前体。KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiO2机器在大型晶片上具有出色的7纳米以下厚度均匀性。它还利用400 Hz频率延长沉积时间，使其与其他系统相比吞吐量更高。另外，它有足够的空间容纳大基板，直径可达8英寸。这使得它适合大规模基板上的器件大批量生产。Quixace的自我优化过程控制功能为用户提供了过程参数的实时数据和反馈，确保了一致的高质量薄膜。该工具还旨在最大限度地减少有害气体泄漏，防止环境污染和保护操作员安全。除了Quixace Ultimate ALD SiO2资产外,KOKUSAI还提供了许多可选的附加组件。其中包括高温计、石英盒和基板支架、射频电源、电离电压发生器和旋转基板支架等附件。这些共同为用户提供了满足任何ALD应用程序需求的全面解决方桉。KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiO2是同级产品中的先进产品，也是最佳型号。它旨在为用户提供可靠、高效的ALD沉积工艺。对于需要优质薄膜、均匀性好、沉积时间快的客户来说，是一个绝佳的选择。Quixace Ultimate ALD SiO2配有可选的附加组件,非常适合任何高级ALD应用程序。