二手 KOKUSAI Vertron DJ-803V #9233086 待售

ID: 9233086
晶圆大小: 8"
Vertical diffusion furnaces, 8" Process: Si2N4 / Nitride Reserved batch operation Number of wafer / Batch: 100 Wafer shape: Semi notch Wafer cassette: 8" Plastic Gas box Gas sticks: N2 SiH2Cl2 NH3 Gas flow diagram Heater: (4) Heater zones Maximum temperature: 850°C Profile TC control thermocouple Control thermocouple location: Between outer tube and inner tube Boat rotation Piezo pressure control VG for control Type, range: Baratron VG for interlock Type, range: Baratron No SMIF Interface No pump No scrubber No loadlock.
KOKUSAI Vertron DJ-803V是专门为执行扩散过程而设计的扩散炉。它提供了一个易于使用的平台,用于在受控大气层的温度范围内处理基板。广泛应用于半导体和电子工业。Vertron DJ-803V配备了创新的水冷敏感器和固定式淋浴头,能够同时处理多种基板和更快地加工。这类炉最适合生产厚度连续均匀的扩散层。炉的大尺寸也允许在冷却过程中有更大的冷却速率,确保基材的最高产量。Vertron炉非常适合金属退火、基材扩散、涂层材料扩散和各种多步骤工艺。它的工作温度范围很广,从20°C到1300°C不等。它还配备了先进的真空设备,能够保持室内清洁的真空环境。为确保高效运行,KOKUSAI Vertron DJ-803V配备了强大的高频气源、高度可靠的石英玻璃加热器和平衡压力系统。炉子有一个自动温度控制单元,保证了整个过程中的精确温度控制。加热器功率范围在1.5到15kW之间,提供精确的功率设定控制。Vertron DJ-803V炉也有两级独立控制机。第一级包括直观的LCD显示屏和内置的配方内存,便于操作。第二级由PC连接和软件组成,可用于进一步的安装和编程目的。KOKUSAI Vertron DJ-803V是执行各种扩散过程的强大而高效的工具。其创新功能确保每个过程都能顺利运行,并提供出色的产品产量。其易用性和高精度的加工使其成为工业扩散过程的绝佳选择。
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